上海积塔半导体申请半导体结构及其制备方法专利，提高器件性能

此前，阿斯麦最先进的浸润式DUV光刻机已经受到限制。路透社称，此次限制措施聚焦的设备是阿斯麦的TWINSCAN NXT：1970i和1980i 浸润式DUV光刻系统。

久日新材董事长赵国锋阐述，公司已完成10余款半导体g-线、i-线光刻胶产品和多款常规面板光刻胶产品的研发，并在下游客户中持续进行测试验证，涉及面板、分立器件、功率器件、传感器及封装等20余家相关客户，且已有4款半导体光刻胶产品通过验证并实现稳定销售，成功进入光刻胶市场。同时，公司明确了半导体光刻胶、显示面板光刻胶、光刻胶相关原材料及配套试剂三大系列产品的发展方向，打造从原材料到下游光刻胶产品一体化的全产业链。公司光刻胶产品主要原材料已实现完全国产化，符合国家发展战略，确保了产品供应的稳定性、连续性和安全性。

结合信越化学开发的光掩模坯和特殊镜头，新型激光后端制造设备可一次性加工 100mm 见方或更大的区域。

金融界8月26日消息，A股三大指数收盘涨跌不一，中证半导体15指数 (半导体15，931793)下跌0.33%，报2105.7点，成交额82.31亿元。

卓海科技公司在前道量检测设备领域深耕十余年，具体来说，目前公司产品以前道量检测修复设备为主，同时也致力于前道量检测设备及核心组件的自主研发和芯片产线运维工作。